ZHCAEP9B July 2015 – November 2024 DLP7000UV , DLP9000XUV , DLP9500UV
直接成像光刻和 3D 打印等先進技術(shù)通常使用針對電磁譜的紫外線區(qū)域進行優(yōu)化的光敏材料。本應(yīng)用報告探討了使用設(shè)計用于在紫外光譜的 UVA 區(qū)域中運行的 TI DLP? UV 數(shù)字微鏡器件 (DMD) 時的熱、占空比、一般光學(xué)、一致性和高縮小倍數(shù)等設(shè)計注意事項。